Кіріспе
Үндістандық профессор Кришна Сарасват АҚШ-тың Стэнфорд университетінің электротехника кафедрасында профессор. Ол инженерлік саласында ISI Highly Cited Researcher, яғни әлем бойынша инженерлік зерттеулердегі ең бағалы 250 ғалымның қатарында, және "силикон процесі технологиясына елеулі үлес қосқаны үшін" IEEE-нің Эндрю С. Гроув сыйлығының иегері.
Krishna Saraswat is a professor in Stanford Department of Electrical Engineering in the United States. He is an ISI Highly Cited Researcher in engineering, placing him in the top 250 worldwide in engineering research, and a recipient of IEEE's Andrew S. Grove Award for "seminal contributions to silicon process technology".
Білімі мен лауазымы
Сарасват 1968 жылы Пиланидегі Бирла технология және ғылым институтынан (BITS) электроника саласында бакалавр дәрежесін алды. 1968 жылы магистр және 1974 жылы электр инженериясы саласында докторлық диссертациясын Стэнфорд университетінде қорғады. Сарасват Стэнфордта зерттеуші ретінде қалды және 1983 жылы электр инженериясының профессоры болып тағайындалды. Сонымен қатар, ол 2004 жылғы қаңтардан бері Үндістанның Пилани қаласындағы Бирла технология және ғылым институтында адъюнкт-профессор, ал 2007 жылғы жазда Үндістанның Бомбей қаласындағы IIT-де қонақ профессор болып жұмыс істеді. Ол Стэнфордтың Инженерлік мектебінің Рикки/Нильсен профессоры және материалдар ғылымы және инженериясы саласының профессоры.
Мансап
Сарасват кремнийдің химиялық фазалық осаздануын (CVD), поликремнийдегі өткізгіштік, силицидтердегі диффузия, контактілік кедергі, бір-бірімен байланыстың кешігуі және кремнийдегі тотығу әсерлерін модельдеу бойынша жұмыс істеді. Ол алюминий/титан қабатталған бір-бірімен байланыстар технологиясын дамытты, ол өнеркәсіп стандарты болды, сондай-ақ вольфрам, WSi2 және SiGe сияқты баламалы материалдармен MOS қақпаларының CVD технологиясын енгізді. Сарасват аспирантурада микротолқынды транзисторлар бойынша жұмыс істеді, ал оның диссертациясы жоғары кернеулі MOS құрылғылары мен тізбектеріне арналған еді. 1980 жылдардың соңында ол бір пластинамен өндіріске назар аударды және оны жасау үшін жабдықтар мен симуляторлар әзірледі. 1993 жылы Texas Instruments компаниясымен бірлесіп, бір пластинамен өндіріске арналған микрофабрика демонстрацияланды. 1990 жылдардың ортасынан бастап Сарасват MOS технологиясын 10 нм-ден кішкентай өлшемге дейін кеңейту технологиясы бойынша жұмыс істеді және әртүрлі құрылғылардың бірнеше қабаттары бар 3D интегралды схемалардың (IC) бірнеше жаңа тұжырымдамаларын ұсынды. Оның қазіргі зерттеулері наноэлектрониканың одан әрі дамуында кремнийді алмастыру үшін жаңа материалдарға, әсіресе SiGe, германий және III-V қосылыстарына бағытталған. 2019 жылдың шілде айына дейін Кришна Сарасватқа шамамен 15 патент берілді.