Ағылшыншамен салыстырыңыз: абзацты басыңыз — түпнұсқа терезеде ашылады. Абзац астындағы EN түймесі оны мәтін ішінде көрсетеді.
Мазмұны
Кіріспе
Open Artwork System Interchange Standard (OASIS) – фотомаска өндірісі үшін дерек құрылымдарын сипаттауға арналған бинарлық файл форматы. Ол интегралдық схемаларды жобалау барысында жасалған иерархиялық интегралдық схема маскасының орналасуы туралы ақпаратты алмасу және қаптау форматының үлгісін көрсетеді, бұл ақпарат фотомасканы өндіру үшін пайдаланылады. Стандартты SEMI әзірледі. Тіл тіктөртбұрыштар, трапециялар және көпбұрыштар сияқты геометриялық пішіндер үшін қажетті кодты анықтайды. Ол әр пішіннің қандай қасиеттері болатынын, оларды осы пішіндерден жасалған үлгілерді қамтитын жасушаларға қалай жинақтауға болатынын және оларды бір-біріне қатысты қалай орналастыруға болатынын белгілейді. Бұл GDSII форматына ұқсас. 2023 жылғы мәлімет бойынша, SEMI мүшелері үшін стандарттың құны 252 доллар, ал мүше емес кез келген адам үшін 335 долларға белгіленген.
Open Artwork System Interchange Standard (OASIS) is a binary file format used for specification of data structures for photomask production. It's used to represent a pattern an interchange and encapsulation format for hierarchical integrated circuit mask layout information produced during integrated circuit design that is further used for manufacturing of a photomask. The standard is developed by SEMI. The language defines the code required for geometric shapes such as rectangles, trapezoids, and polygons. It defines the type of properties each can have, how they can be organized into cells containing patterns made by these shapes and defines how each can be placed relative to each other. It is similar to GDSII. As of 2023 the cost of the standard for members of SEMI was set to $252 and non members: US$335.
Кіріспе
OASIS – интегралды схемаларды жобалау және электрондық үлгілерді жасау тілі GDSII-нің ізбасары деп есептеледі. GDSII 1970-ші жылдары жасалған, сол кезде интегралды схемалардың жүз мыңдаған геометриялық пішіндері, қасиеттері мен орналасуларын басқару қажет болды. Бүгінде миллиардтаған пішіндер, қасиеттер және орналасуларды басқаруға тура келеді. GDSII форматындағы файлдар көбінесе ондаған гигабайт сақтау көлемін алады және оларды сақтау мен өңдеу қиынға соғады. OASIS жасаушылары мен қолданушылары жұмыс станцияларының деректерді сақтау және өңдеу мүмкіндіктерінің өсуі интегралды схемалардың күрделілігінің өсуінен қалып қойғанын айтты. Сондықтан OASIS, геометриялық пішіндердің күрделі түрлерін (мысалы, тек 25 түрлі трапеция) енгізу арқылы деректердің көлемін азайтуға тырысып, GDSII файлдарының үлкен көлеміне байланысты туындаған мәселені шешуге көмектеседі. Сонымен қатар, координаттар үшін өзгермелі ұзындығы бар сандық формат (Run length encoding-ке ұқсас) жүзеге асырылды. Соңында, OASIS файлындағы әрбір жасуша gzip сияқты алгоритммен тәуелсіз түрде қысылуы мүмкін. OASIS форматын жасау жұмысы 2001 жылдың маусымында басталды. 1.0 нұсқасы 2004 жылдың наурыз айында жарық көрді. Оны қолдану үшін GDSII оқырмандары мен жазуларымен жабдықталған жабдықтарға қосылатын жаңа OASIS оқырмандары мен жазуларын жасау қажет болды. Оның қабылдануы АҚШ, Жапония, Тайвань, Корея және Еуропа елдерінің интегралды схемаларды жобалау, жабдықтар, фотомаскалар, fabless компаниялары, үшінші тараптың зияткерлік меншігі (ЗМ) және өндіріс компанияларының бірлескен күш-жігерінің нәтижесінде болды. OASIS.MASK деп аталатын OASIS-тің шектеулі нұсқасы, үлгі жасау машиналары және инспекциялық жүйелер сияқты жартылай өткізгіш фотомаскаларды өндіру жабдықтарының ерекше қажеттіліктерін қанағаттандырады. OASIS және OASIS.MASK екеуі де өнеркәсіптік стандарттар болып табылады.
OASIS is the purported commercial successor to the integrated circuit design and manufacturing electronic pattern layout language, GDSII. GDSII was created in the 1970s when integrated circuit designs had a few hundred thousand geometric shapes, properties and placements to manage. Today, there can be billions of shapes, properties, and placements to manage. File sizes of GDSII format often takes tens gigabytes of storage and are difficult to store and process. OASIS creators and users claimed that the growth of workstations' data storage and handling capabilities was far outpaced by the growth of Integrated Circuit layout complexity. Therefore, OASIS tries to solve the purported problem of the large size of the GDSII files by introducing complicated types of the geometric shapes (25 types of trapezoids only) to reduce the data size. Also, variable length numeric format (similar to Run length encoding) for coordinates was implemented. Finally, each cell in the OASIS file can be independently compressed by the gzip like algorithm. The effort to create the OASIS format started in June 2001. The release of version 1.0 took place in March 2004. Its use required the development of new OASIS readers and writers that could be coupled to design and manufacturing equipment already equipped with GDSII readers and writers. Its adoption was born of a concerted effort by integrated circuit design, equipment, photomask, fabless, 3rd party Intellectual Property (IP) and manufacturing companies from the United States, Japan, Taiwan, Korea and Europe. A constrained version of OASIS, called OASIS. MASK, addresses the unique needs of semiconductor photomask manufacturing equipment such as pattern generators and inspection systems. Both OASIS and OASIS. MASK are industry standards.
Өнеркәсіптік стандарт
OASIS және OASIS. MASK енді ресми өнеркәсіптік стандарттар болып табылады. Екеуі де сауда және стандарттау ұйымы SEMI-ге тиесілі және олардың күтімі осы ұйымда. SEMI бүкіл әлем бойынша жартылай өткізгіш материалдар және жабдықтар салаларына қызмет көрсетеді. SEMI P39 OASIS және SEMI P44 OASIS. MASK үшін ақы төленетін талаптар SEMI веб-сайтынан жүктеуге болады.
OASIS and OASIS. MASK are now formal industry standards. Both are owned and maintained by the trade and standards organization SEMI. SEMI serves the semiconductor materials and equipment industries worldwide. The fee based specifications for SEMI P39 OASIS and SEMI P44 OASIS. MASK can be downloaded from SEMI's web site.