Сравнивайте с английским: нажмите на абзац — оригинал откроется в окне. Кнопка EN под абзацем показывает его прямо в тексте.
Содержание
Введение
Open Artwork System Interchange Standard (OASIS) — это двоичный формат файла, используемый для спецификации структур данных при производстве фотомасок. Он предназначен для представления шаблонов, а также служит форматом обмена и инкапсуляции иерархической информации о масках интегральных схем, создаваемой в процессе проектирования, и используемой впоследствии для изготовления фотомасок. Стандарт разработан SEMI. Язык определяет коды, необходимые для геометрических фигур, таких как прямоугольники, трапеции и многоугольники, определяет типы свойств, которыми они могут обладать, способы их организации в ячейки, содержащие шаблоны, созданные из этих фигур, и определяет взаимное расположение этих ячеек. Он аналогичен GDSII. По состоянию на 2023 год стоимость стандарта для членов SEMI составляла 252 доллара США, а для нечленов — 335 долларов США.
Open Artwork System Interchange Standard (OASIS) is a binary file format used for specification of data structures for photomask production. It's used to represent a pattern an interchange and encapsulation format for hierarchical integrated circuit mask layout information produced during integrated circuit design that is further used for manufacturing of a photomask. The standard is developed by SEMI. The language defines the code required for geometric shapes such as rectangles, trapezoids, and polygons. It defines the type of properties each can have, how they can be organized into cells containing patterns made by these shapes and defines how each can be placed relative to each other. It is similar to GDSII. As of 2023 the cost of the standard for members of SEMI was set to $252 and non members: US$335.
Введение
OASIS является заявленным коммерческим преемником языка описания электронных шаблонов для проектирования и производства интегральных схем GDSII. GDSII был разработан в 1970-х годах, когда проекты интегральных схем содержали несколько сотен тысяч геометрических фигур, свойств и размещений, которыми необходимо было управлять. Сегодня количество фигур, свойств и размещений может достигать миллиардов. Файлы формата GDSII часто занимают десятки гигабайт памяти и сложны в хранении и обработке. Создатели и пользователи OASIS утверждали, что рост возможностей хранения и обработки данных рабочих станций значительно отставал от роста сложности компоновки интегральных схем. Поэтому OASIS призван решить проблему большого размера файлов GDSII путем введения сложных типов геометрических фигур (только 25 типов трапеций) для уменьшения объема данных. Также был реализован числовой формат переменной длины (аналогичный кодированию длин серий) для координат. Наконец, каждая ячейка в файле OASIS может быть сжата независимо с использованием алгоритма, подобного gzip. Работа над созданием формата OASIS началась в июне 2001 года, а выпуск версии 1.0 состоялся в марте 2004 года. Его использование потребовало разработки новых программ для чтения и записи файлов OASIS, которые можно было бы интегрировать с оборудованием для проектирования и производства, уже оснащенным программами для чтения и записи GDSII. Его внедрение стало результатом совместных усилий компаний, занимающихся проектированием интегральных схем, производством оборудования, изготовлением фотомасок, разработкой заказных микросхем (fabless), интеллектуальной собственности (IP) сторонних разработчиков и производством, из США, Японии, Тайваня, Кореи и Европы. Усеченная версия OASIS, называемая OASIS.MASK, предназначена для удовлетворения специфических потребностей оборудования для производства полупроводниковых фотомасок, такого как генераторы рисунков и системы контроля. OASIS и OASIS.MASK являются отраслевыми стандартами.
OASIS is the purported commercial successor to the integrated circuit design and manufacturing electronic pattern layout language, GDSII. GDSII was created in the 1970s when integrated circuit designs had a few hundred thousand geometric shapes, properties and placements to manage. Today, there can be billions of shapes, properties, and placements to manage. File sizes of GDSII format often takes tens gigabytes of storage and are difficult to store and process. OASIS creators and users claimed that the growth of workstations' data storage and handling capabilities was far outpaced by the growth of Integrated Circuit layout complexity. Therefore, OASIS tries to solve the purported problem of the large size of the GDSII files by introducing complicated types of the geometric shapes (25 types of trapezoids only) to reduce the data size. Also, variable length numeric format (similar to Run length encoding) for coordinates was implemented. Finally, each cell in the OASIS file can be independently compressed by the gzip like algorithm. The effort to create the OASIS format started in June 2001. The release of version 1.0 took place in March 2004. Its use required the development of new OASIS readers and writers that could be coupled to design and manufacturing equipment already equipped with GDSII readers and writers. Its adoption was born of a concerted effort by integrated circuit design, equipment, photomask, fabless, 3rd party Intellectual Property (IP) and manufacturing companies from the United States, Japan, Taiwan, Korea and Europe. A constrained version of OASIS, called OASIS. MASK, addresses the unique needs of semiconductor photomask manufacturing equipment such as pattern generators and inspection systems. Both OASIS and OASIS. MASK are industry standards.
Промышленный стандарт
ОАЗИС и ОАЗИС. MASK теперь являются общепринятыми отраслевыми стандартами. Оба стандарта принадлежат и поддерживаются торговой и стандартизационной организацией SEMI. SEMI обслуживает индустрию полупроводниковых материалов и оборудования по всему миру. Платные спецификации SEMI P39 OASIS и SEMI P44 OASIS. MASK можно загрузить с веб-сайта SEMI.
OASIS and OASIS. MASK are now formal industry standards. Both are owned and maintained by the trade and standards organization SEMI. SEMI serves the semiconductor materials and equipment industries worldwide. The fee based specifications for SEMI P39 OASIS and SEMI P44 OASIS. MASK can be downloaded from SEMI's web site.