Кіріспе

Екі жартылай өткізгіш материалды "сендвич" тәрізді өсіргенде қос гетероструктура, кейде қос гетероқосылым деп аталады. Бір материал (мысалы, AlGaAs) сыртқы қабаттар (немесе қаптама) үшін, ал кіші жолақты аралықтағы (мысалы, GaAs) ішкі қабат үшін қолданылады. Бұл мысалда ішкі қабаттың екі жағында екі AlGaAs-GaAs түйіспелері (немесе шекаралары) бар. Құрылғы қос гетероқұрылым болуы үшін екі шекара болуы керек. Егер қаптама материалдың тек бір жағы болса, құрылғы қарапайым, яғни бір гетероқұрылым болады. Қос гетероструктура оптоэлектрондық құрылғыларда өте пайдалы құрылым және қызықты электрондық қасиеттерге ие. Егер қаптама қабаттарының бірі p-допингтелген, екіншісі n-допингтелген, ал кіші энергетикалық саңылауы бар жартылай өткізгіш материал допингтелмеген болса, p-i-n құрылымы пайда болады. Осы p-i-n құрылымының ұштарына ток қосылғанда электрондар мен тесіктер гетероқұрылымға енгізіледі. Кіші энергетикалық саңылау материалдары шекараларда энергияның үзілуін тудырады, электрондар мен тесіктерді кіші энергетикалық саңылау жартылай өткізгіште шектейді. Электрондар мен тесіктер фотондарды шығаратын ішкі жартылай өткізгіште қайта бірігеді. Егер ішкі аймақтың ені де Бройль толқын ұзындығына дейін азайтылса, ішкі аймақтағы энергиялар үздіксіз болмай, дискретті болады. (Шындығында, олар үздіксіз емес, бірақ энергия деңгейлері өте жақын болғандықтан, оларды үздіксіз деп есептейміз.) Осы жағдайда қос гетероқұрылым кванттық құдыққа айналады.