Введение

Etec Systems была американской компанией-производителем сканирующих электронных микроскопов, оборудования для электронной литографии и лазерной литографии с 1970 по 2005 год. Она располагалась в городах Хейворд, штат Калифорния, и Хиллсборо, штат Орегон.

История компании

Корпорация Etec, основанная в 1970 году в городе Хейвард, штат Калифорния, изначально занималась производством сканирующих электронных микроскопов (SEM), но впоследствии переориентировалась на производство оборудования для электронно-лучевой литографии, прекратив выпуск SEM. Позже Etec объединилась с компанией ATEQ из Бивертона, штат Орегон (район Портленда), которая производила оборудование для лазерной литографии. Объединенная компания получила название "Etec Systems" и предлагала широкий спектр оборудования для литографии, использующего как электронные, так и лазерные лучи. Данная продукция предназначалась для изготовления фотомасок и ретикул, применяемых в производстве интегральных схем. В 1999 году подразделение компании, расположенное в Бивертоне, штат Орегон, было перенесено в Хиллсборо, штат Орегон. В 2000 году Etec была приобретена компанией Applied Materials и организована в ее структуре как самостоятельное бизнес-подразделение. В 2000 году на предприятии в Хейварде работало 600 сотрудников. В 2002 году Applied Materials объявила о рассмотрении плана по закрытию Etec. В октябре 2005 года Etec Systems была полностью интегрирована в состав материнской компании Applied Materials.

Сканирующие электронные микроскопы

Первоначально образованная в 1970 году, компания Etec выпускала сканирующие электронные микроскопы исключительно высокого качества; многие приборы до сих пор успешно работают спустя 30 лет. Автосканер, разработанный Нельсоном Ю, позволял получать превосходные изображения, превосходя современные инструменты, страдающие от цифрового шума и других недостатков. Когда MEBES стал основным продуктом, компания была приобретена Perkin Elmer, и производство SEM было остановлено.

Инструменты для литографии электронным лучом

Через некоторое время после 2002 года производство линейки продуктов, составлявшей первоначальное предложение Etec (MEBES – система электронно-лучевой литографии для производства), было прекращено. Большинство установок MEBES III были выведены из эксплуатации в пользу установок лазерной литографии Etec CORE и ALTA, обеспечивающих более высокую производительность и использующих более экологичный фоторезист типа IP3500, не требующий разработки на основе растворителей. Тем не менее, в настоящее время во всем мире продолжают использоваться отдельные установки MEBES III и IV.

Инструменты для лазерной литографии

С приобретением Etec в 2005 году линейка лазерных литографических установок Etec продолжает разрабатываться и производиться компанией Applied Materials. Шведская компания Micronic AB и немецкая компания Heidelberg Instruments являются конкурентами в области лазерного изготовления фотошаблонов. Однако спрос на лазерные литографические установки Applied Materials позволяет им оставаться самым распространенным и используемым оборудованием в индустрии фотомасок.