Сравнивайте с английским: нажмите на абзац — оригинал откроется в окне. Кнопка EN под абзацем показывает его прямо в тексте.
Содержание
Введение
Способ покрытия твердых поверхностей ионами
Method of coating solid surfaces with ions
Ионное покрытие (IP) – это процесс физического осаждения из паровой фазы (PVD), который также называют ионно-стимулируемым осаждением (IAD) или ионным осаждением пара (IVD) и представляет собой модифицированную версию вакуумного осаждения. Ионное покрытие использует одновременную или периодическую бомбардировку подложки и осаждает пленку посредством энергетических частиц размером с атом, называемых ионами. Бомбардировка, предшествующая осаждению, используется для очистки поверхности подложки методом распыления. В процессе осаждения бомбардировка применяется для изменения и контроля свойств формирующейся пленки. Важно, чтобы бомбардировка была непрерывной на протяжении всего процесса, от этапа очистки до этапа осаждения, для поддержания атомно чистого интерфейса. Недостаточная очистка этого интерфейса может привести к снижению прочности покрытия или ухудшению адгезии. Существует множество различных процессов вакуумного осаждения покрытий, которые применяются в различных областях, таких как повышение коррозионной стойкости и износостойкости материалов. Большая энергия бомбардирующих частиц обеспечивает более прочное соединение.
Ion plating (IP) is a physical vapor deposition (PVD) process that is sometimes called ion assisted deposition (IAD) or ion vapor deposition (IVD) and is a modified version of vacuum deposition. Ion plating uses concurrent or periodic bombardment of the substrate, and deposits film by atomic sized energetic particles called ions. Bombardment prior to deposition is used to sputter clean the substrate surface. During deposition the bombardment is used to modify and control the properties of the depositing film. It is important that the bombardment be continuous between the cleaning and the deposition portions of the process to maintain an atomically clean interface. If this interface is not properly cleaned, then it can result into a weaker coating or poor adhesion. They are many different processes to vacuum deposited coatings in which they are used for various applications such as corrosion resistance and wear on the material. More energy available on the surface of the bombarding species, resulting in more complete bonding.
Минусы
Увеличение числа переменных, которые необходимо учитывать по сравнению с другими методами. Как описано в данной статье, изначально он применялся для улучшения адгезии плёнки и повышения качества покрытия поверхности.
Increased variables to take into account when compared to other techniques. As described by this article, it was used initially to enhance film adhesion and improve surface coverage.
История
Этот процесс был впервые применен в 1960-х годах и впоследствии использовался на протяжении всего этого времени с применением специальных методов очистки, а также реактивных и квазиреактивных методов нанесения покрытий. Очистка распылением используется с 1950-х годов для очистки научных поверхностей. В 1970-х годах высокоскоростное магнетронное распыление постоянным током показало, что бомбардировка уплотняет пленки и способствует повышению твердости материалов. В дальнейшем, в 1983 году, было установлено, что бомбардировка осуществлялась одновременно с ионами внедряемого газа.
This process was first used in the 1960's and was continued throughout the time by using specific cleaning techniques and film growth reactive and quasi reactive deposition techniques. Sputter cleaning has been used since the 1950's for cleaning scientific surfaces. In the 1970's, high rate DC magnetron sputtering has shown that bombardment densified the films and helped the hardness of materials. As we further progressed, we learned in 1983 that bombardment was used as concurrent bombardment of inserted gas ions.