Введение

Фосфид галлия (GaP), фосфид галлия, является сложным полупроводниковым материалом с непрямым запрещенным диапазоном 2,24 эВ при комнатной температуре. Нечистый поликристаллический материал выглядит как бледно-оранжевые или сероватые фрагменты. Нелегированные монокристаллы имеют оранжевый цвет, но сильно легированные пластины кажутся темнее из-за поглощения свободными носителями заряда. Он не имеет запаха и нерастворим в воде. Микротвердость GaP составляет 9450 Н/мм², температура Дебая – , а коэффициент теплового расширения при комнатной температуре равен 5,3 К⁻¹. Его статическая диэлектрическая проницаемость при комнатной температуре составляет 11,1. Показатель преломления изменяется от ~3,2 до 5,0 в видимом диапазоне, что выше, чем у большинства других полупроводниковых материалов. В своем прозрачном диапазоне его показатель преломления выше, чем у почти любого другого прозрачного материала, включая драгоценные камни, такие как алмаз, или не оксидные линзы, такие как сульфид цинка.

Светодиоды

Фосфид галлия используется в производстве недорогих красных, оранжевых и зеленых светодиодов (LED) с низкой и средней яркостью с 1960-х годов. Он применяется как самостоятельно, так и в сочетании с фосфидом арсенида галлия. Светодиоды GaP в чистом виде излучают зеленый свет с длиной волны 555 нм. GaP, легированный азотом, излучает желто-зеленый свет (565 нм), а GaP, легированный оксидом цинка, – красный свет (700 нм). Фосфид галлия прозрачен для желтого и красного света, поэтому светодиоды GaAsP на подложке из GaP более эффективны, чем GaAsP на подложке из GaAs.

Рост кристаллов

При температурах выше ~900 °C фосфид галлия диссоциирует, и фосфор улетучивается в виде газа. При выращивании кристаллов из расплава при 1500 °C (для подложек для светодиодов) это необходимо предотвращать, удерживая фосфор под слоем расплавленного оксида бора под давлением инертного газа 10–100 атмосфер. Этот процесс называется жидкофазным инкапсулированным методом Чохральского (LEC) – усовершенствованием метода Чохральского, используемого для выращивания кремниевых подложек.