Тақырыптар

Полупроводниктер өндірісі

Semiconductor Fabrication · 51 мақала

  1. Химикалық булы тарту әдісі

    Химикалық буланып тұну (CVD) әдісі – жартылай өткізгіштерде сапалы қабаттар жасауға арналған вакуумдық технология. Материалдарды жабу, микроөндіріс үшін қолданылады.

    #1339 · 5 мин оқу

  2. Жарымөткіштер өндірісінде плазмамен күйдіру процесі

    Жарымөткіш өндірісінде плазмамен күйдіру – фоторезистті (жарыққа сезімтал қабат) алып тастау процесі. Отантек газ, оттегі немесе фтор қолданылады.

    #5640 · 2 мин оқу

  3. Микрофабрикация және жартылай өткізгіш өндірісінде фотолитография процесі

    Фотолитография – интегралды схемалар өндірісіндегі микрофабрикация процесі. Жарық көмегімен суреттер кремний пластинаға түсіріледі. Фоторезист қолданылады.

    #5649 · 14 мин оқу

  4. Жапырақша: Интегралдық схемалар өндірісіндегі жартылай өткізгіштік материалдар

    Жартылайөткізгіштен жасалған, микросхемалар өндірісінде қолданылатын жұқа кесек – wafer туралы толық ақпарат. Технология, өндіріс процестері.

    #9847 · 7 мин оқу

  5. Қоймалы аймақтан тазарту әдісі

    Айналмалы зона балқыту әдісі – металл таяқшаларды тазарту технологиясы. Жартылай өткіштерді, кристаллдарды залалсыздандыруға қолданылады. Биік тазалықты қамтамасыз етеді.

    #52186 · 4 мин оқу

  6. Цзохральски әдісімен кристал өсіру

    Жартылай өткізгіштер, металдар мен зергерлік тастарды өсіру үшін қолданылатын Чохральски әдісі туралы ақпарат. Силиций кристалдарын алу технологиясы.

    #53026 · 4 мин оқу

  7. Нанокристалды кремний: қасиеттері мен қолданылуы

    Нанокристалды кремний (nc Si) – кеуекті кремнийдің түрі. Аморфты және кристалдық фазалардан тұрады, күн батареяларында тиімді қолданылады.

    #57608 · 2 мин оқу

  8. Жұқа пленкалық транзисторлар және TFT технологиясы

    Жұқа пленкалық транзисторлар (TFT) технологиясы: шығарылуы, қолданылуы (LCD дисплейлерде). Жартылай өткізгіш материалдар мен ерекшеліктері туралы ақпарат.

    #58048 · 5 мин оқу

  9. Субстратқа қатысты кристалл өсу процесі

    Эпитаксия: кристалдық өсу, қабаттардың негізге сәйкес бағытталуы. Эпитаксиялық қабаттардың құрылымы, кристалдық реттілік және маңызы туралы ақпарат.

    #100475 · 4 мин оқу

  10. Молекулалық сәулелі эпитаксия процесі

    Жұқа пленкалы кристалл өсіру: Молекулалық сәулелі эпитаксия (MBE) технологиясы, транзисторлар, лазерлер жасауда қолданылады. Нанотехнологияның негізі.

    #100527 · 4 мин оқу

  11. Фотолитографиялық маскалар және олардың даму тарихы

    Фотолитография, фотошаблон, интегралды схемалар (чиптер) өндірісінде қолданылады. Шаблон жиынтығы, қисық сызықты шаблон туралы біліңіз. Жартылай өткізгіш өндіріс.

    #128578 · 6 мин оқу

  12. Линза мен микрочип арасындағы су қабаты: Иммерсиялық литография техникасы

    Жарымөткішгіш өндірісіндегі иммерсиялық литография – оптикалық линза мен микрочип арасына су қосып, шешімді арттыру технологиясы. Нақтылық пен рұқсатты жақсартады.

    #128584 · 3 мин оқу

  13. Сапфир үстіндегі кремний өндіріс процесі

    Сапфирдегі кремний (SOS) технологиясы – металл-оксид-жартылайөткішті интегралды схемалар өндірісінде қолданылатын изолятор. Радиациядан қорғайды.

    #140910 · 2 мин оқу

  14. Реактивтік иондық қабылдау: Микроөндірістегі материалды алып тастау әдісі

    Реактивті иондық гравировка (RIE): микроөндірісте дәл материалды алып тастау технологиясы. Плазма, вакуум, және иондардың бетке әсері туралы біліңіз.

    #141393 · 2 мин оқу

  15. Жапырақшаны дайындау және кесу процесі

    Жартылай өткізгіш құрылғыларды дайындауда пластинаны IC қаптамасы мен сынағына дайындау, пластинаны орнату және кесу кезеңдері қарастырылады.

    #175004 · 1 мин оқу

  16. Құрғақ кесу технологиясы: Жартылай өткізгіштерді өңдеу әдісі

    Кеуекті құрғақ тегістеу (dry etching) – жартылай өткізгіш материалды плазма арқылы абразивті бөлшектермен жою. Анизотропты тегістеуге мүмкіндік береді.

    #182350 · 2 мин оқу

  17. Бриджмен-Штокбаргер әдісі: кристал өсіру технологиясы

    Бриджмен-Штокбаргер әдісі: бір кристалл өсіру, қойма кристалдарын қаттау. Жоғары температурадан баяу салқындату арқылы сапалы материал алу тәсілі.

    #188112 · 2 мин оқу

  18. Беттік микроөңдеу технологиясы: қабаттармен құрылым жасау

    Беттік микроөңдеу – жартылай өткізгіш қабаттарды қалыптастыру арқылы микроқұрылымдар жасау. Полисилиций, кремний диоксиді қолданылады.

    #198661 · 2 мин оқу

  19. Жарымөткіштер өндірісіндегі химиялық-механикалық жылтырату техникасы

    Жартылай өткізгіш өндірісіндегі CMP жылтырату технологиясы: химиялық және механикалық әсерлер арқылы беттерді тегістеу, микросхема жасауда маңызды.

    #199161 · 5 мин оқу

  20. Жартылайөткізгіштерді өндіру технологиясы

    Жартылай өткізгіштерді жасау процесі: электрондық схемалар, RF күшейткіштер, LED-тер өндірісі. Дизайннан бастап құрылымға дейін толық ақпарат!

    #215774 · 2 мин оқу

  21. Төселгі қабаты және кванттық нүктенің өсуі

    Жұқа пленкалардағы «ылғалды қабат» – кристалдық негізге жабысқан атомдардың монослойы. Кванттық нүктелер өсуіне негіз болады. Эпитаксия, GaAs, InAs.

    #224384 · 1 мин оқу

  22. Жұқа пленканың электр кедергісі

    Жұқа пленканың кедергісі: беттік кедергі, қабаттық кедергі, төрт нүктелі зондты өлшеу, жартылай өткішгіштер, металл жабыну, шыны қаптама сипаттамасы.

    #226885 · 3 мин оқу

  23. Эпитаксиялық пластиналар: өндіріс әдістері мен қолданылуы

    Эпитаксиялық пластиналар: фотоника, микроэлектроника үшін жартылай өткізгіш материал. Өсіру әдістері, қасиеттері, қолданылуы туралы толық ақпарат.

    #269921 · 3 мин оқу

  24. Жарымөткіш тілімдерді тасымалдауға арналған SMIF контейнері

    SMIF – жартылай өткізгіш пластиналарды тасымалдауға арналған стандарттық интерфейс. 1980-жылдары Hewlett Packard ұжымымен жасалған, SEMI стандарты.

    #270008 · 2 мин оқу

  25. Көлемді интегралдық схемалар жүйесі

    Үлкен интегралдық схемалар: Wafer-scale интеграция (WSI) технологиясы – бірнеше чиптің бірлесіп жұмыс істеуі, өнімділік пен тиімділікті арттыру жолы.

    #276440 · 5 мин оқу

  26. Жаңа буын фотолитографиялық технологиялар

    Жаңа буын фотолитографиясы: микросхема өндірісіндегі технологиялар, Moore заңы, жарық толқынының ұзындығы, наножазу, шешімділікті арттыру.

    #285395 · 5 мин оқу

  27. Жылдам термиялық өңдеу: Жартылай өткізгіштерді өңдеу технологиясы

    Жылдам термиялық өңдеу (RTP) – жартылай өткізгіштерді секундтарда 1000°C-тан жоғары температураға дейін қыздыру. Температураны бақылау маңызды!

    #286316 · 2 мин оқу

  28. Кремний және металл қосылыстары

    Силицидтер – кремний және басқа элементтердің қосылысы. Қасиеттері бойынша боридтерге жақын, бірақ құрылымы бөлек. Тікелей қосылу арқылы жасалады.

    #288359 · 1 мин оқу

  29. Жарымөткішгіш өндірісіндегі фоторезист технологиясы

    Жартылай өткізгіш өндірісінде резист – схеманы субстратқа түсіруге арналған қабат. Литография арқылы өңдеуге, қорғауға қолданылады. Фоторезисттер туралы толық ақпарат!

    #296932 · 2 мин оқу

  30. Фотолитографиялық жабдықтар және интегралдық схемалар өндірісінің эволюциясы

    Интегралды схемалар өндірісінде қолданылатын фотолитографиялық құрал – степпер туралы ақпарат. Микрочиптер жасаудағы маңызды ролі, жұмыс принципі.

    #297583 · 11 мин оқу

  31. Жұқа пленкаларды спин жағу әдісі

    Жұқа пленкалар жасау үшін қолданылатын spin coating әдісі туралы ақпарат. Бұл әдіс центрифуга күші арқылы жабынды таратуға көмектеседі. Spin coater туралы да біліңіз.

    #310746 · 2 мин оқу

  32. Жағалау аймағында өсірілген кремний кристалдары

    Жоғары таза кремний: Float zone әдісімен өндіріледі, ластанусыз өсуге мүмкіндік береді. Czochralski әдісінен артықшылығы – төмен көміртек, оттегі мөлшері.

    #313602 · 1 мин оқу

  33. Жар фазалық ыдырау арқылы жартылай өткізгіштердегі из элементтерді анықтау

    Жар фазалық ыдырау (VPD) әдісі TXRF сезімталдығын арттырады. Ластанушы заттарды ұсақ түйіршіктерге айналдыру арқылы анықтау шегі жақсартылады. AAS-тан өзгеше.

    #313950 · 1 мин оқу

  34. Metalorganic vapour-phase epitaxy

    #348754 · 4 мин оқу

  35. Cathodic arc deposition

    #352447 · 4 мин оқу

  36. Иондық жабын технологиясы

    Иондық қаптау: беттерді иондармен жабу әдісі. PVD процесі, тазалау, қабат қалыптастыру, қасиеттерін жақсарту. Жаңа технология туралы біліңіз!

    #367536 · 1 мин оқу

  37. Микрометрлік масштабта құрылымдар жасау өнері

    Микрометрлік және нанометрлік құрылғыларды жасау технологиясы: микроэлектроника, MEMS, оптика, биомедицина салаларындағы қолданысы. Жаңа технологиялар мен міндеттер.

    #371763 · 5 мин оқу

  38. Фотолитографияны жақсарту техникасы: Оптикалық жақындық түзету (OPC)

    Фотолитографияны жетілдіру: OPC техникасы жарық дифракциясынан туындаған қателерді түзетеді. Жартылай өткішгіш құрылғылар өндірісінде маңызды, суретті дәлдікпен бейнелеуге көмектеседі.

    #373543 · 6 мин оқу

  39. Интегралдық схемалар фотолитографиясындағы ажыратымдылықты арттыру технологиялары

    Интегралды схемалар фотолитографиясы: Жарық шешімін арттыру технологиялары, 5 нм-ге дейін нақты элементтер жасау, кремний пластиналарға схемалар түсіру.

    #387150 · 5 мин оқу

  40. Атомдық қабатты эпитаксия: Наноқабықтарды өсіру технологиясы

    Атомдық қабатты эпитаксия (ALE/ALD) – жұқа пленка өсірудің ерекше түрі. Бұл әдіс екі элементтің қабаттарын тікелей өсіріп, біртекті, жақсы құрылымдалған кристалл торларын жасауға мүмкіндік береді.

    #394276 · 1 мин оқу

  41. Жартылай өткізгіштерді шоғырландыру: Химиялық сәулелі эпитаксия

    Жартылайөткішгіш қабаттарды жасау үшін химиялық сәулелі эпитаксия (CBE) әдісі қолданылады. III-V жүйелері үшін өте тиімді, вакуумда өтеді.

    #394288 · 4 мин оқу

  42. Жұқа пленкалардың құрылымдық ерекшеліктері мен қолданылуы

    Жұқа пленкалар (STF) – физикалық булану арқылы жасалатын, қасиеттері бағытталған наноқұрылымды материалдар. Диаметрі 10-300нм, кристаллистігі жоғары.

    #395123 · 1 мин оқу

  43. Атомдық қабатпен жабындау технологиясы

    Атомдық қабаттап жабу (ALD) – нано материалдарды жасау және жартылай өткізгіш құрылғыларын өндіруде қолданылатын жұқа пленка жабу технологиясы.

    #395358 · 10 мин оқу

  44. Плазмалық кесу: Интегралдық схемалар өндірісіндегі технология

    Плазмалық кесу: интегралдық схемалар өндірісінде қолданылатын технология. Газ қоспасымен материалды өңдеу, физикалық қасиеттерін өзгерту.

    #431235 · 3 мин оқу

  45. Жарымұқапты кремний пластиналарды сақтау және тасымалдауға арналған контейнерлер

    Жартылай өткізгіш пластиналарды сақтауға арналған FOUP контейнерлері туралы ақпарат. Стандарттар, қасиеттері, SMIF-тен айырмашылығы. Технология жаңалықтары.

    #446483 · 2 мин оқу

  46. Газ фазалық эпитаксия: GaN, GaAs және басқа жартылай өткізгіштерді өндіру технологиясы

    Жұқа пленкалы өсіру HVPE технологиясы: GaN, GaAs сияқты жартылай өткізгіштерді өндіру, төмен құн, жоғары өсу жылдамдығы, MOCVD-ге балама.

    #452574 · 2 мин оқу

  47. Фторсиликатты шыны және керамика: қасиеттері мен қолданылуы

    Фторсиликатты шыны – кремний, фтор және оттектен тұратын материал. Жартылай өткізгіш өндірісінде диэлектрик ретінде, сондай-ақ микросхемаларда қолданылады.

    #454273 · 1 мин оқу

  48. Process (engineering)

    #459103 · 1 мин оқу

  49. Electron-beam physical vapor deposition

    #484061 · 6 мин оқу

  50. Micromy

    #487544 · 1 мин оқу

  51. Tantalum nitride

    #491584 · 1 мин оқу